源卓微纳科技取得双面曝光相关专利，提升曝光精度_资讯

源卓微纳科技取得双面曝光相关专利，提升曝光精度

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2024-09-19 10:02:18

金融界 2024 年 9 月 18 日消息，天眼查知识产权信息显示，源卓微纳科技（苏州）股份有限公司取得一项名为“一种双面曝光系统的校正方法和曝光方法“，授权公告号 CN114518695B，申请日期为 2020 年 11 月。

专利摘要显示，本发明提供了一种双面曝光系统的校正方法及曝光方法，所述双面曝光系统包括校正对位系统包括至少两个对位相机，设定所述校正对位系统的一对位相机为基准相机，获取以基准相机为基准的世界坐标系；其余对位相机均统一至基准相机的世界坐标系；第一曝光系统和第二曝光系统分别曝光第一图形标记和第二图形标记至运动平台上设置的标尺；通过对位相机获取第一图形标记和第二图形标记的世界坐标，得到所述第一曝光系统和第二曝光系统的世界坐标。根据所述第一曝光系统和所述第二曝光系统的世界坐标，计算所述第一曝光系统和第二曝光系统的图形数据位置坐标信息。将各个部件的坐标系统一至同一坐标系，校正上下曝光出现的位置偏差，提升曝光精度。

来源：金融界

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