同方威视申请辐射成像系统和方法专利，提高辐射探测质量
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2024-10-22 07:20:50
金融界2024年10月21日消息，国家知识产权局信息显示，同方威视技术股份有限公司申请一项名为“辐射成像系统和方法”的专利，公开号 CN 118758980 A，申请日期为2021年7月。
专利摘要显示，本公开提出一种辐射成像系统和方法，涉及辐射探测技术领域。本公开的一种辐射成像系统包括：光电二极管探测器，被配置为接收来自射线源的射线，并生成第一探测信号；第一成像设备，与光电二极管探测器连接，被配置为根据第一探测信号生成第一成像数据；计数探测器，位于光电二极管探测器的远离射线接收面的一侧，被配置为接收穿过光电二极管探测器的射线，生成第二探测信号；计数成像设备，与计数探测器连接，被配置为根据第二探测信号生成计数成像数据；和图像融合装置，被配置为根据第一成像数据和计数成像数据，获取第一融合图像，提高辐射探测质量。
来源：金融界