11月26日，上海交通大学先进电子材料与器件平台（以下简称“AEMD平台”）迎来十周年庆，同时平台正式开放二、三期运行。这条具有纳米尺寸图形化能力的6英寸无源微纳结构与器件加工的科研实验线，工艺能力涵盖光刻、薄膜、刻蚀、热工艺等全链式微纳加工工艺，十年来平台为上海交通大学多学科发展和交叉融合作出突出贡献，同时平台面向国家需求，积极对接校外科研院所和科技企业的项目需求，助推科研项目基础与应用研究进程，促进产业关键技术创新与突破。

记者获悉，继2014年AEMD一期西区实验室正式开放运行后，在上海交大及电院支持下，追加逾3亿元投入平台二、三期建设，建成1200余平方米、洁净度从十级到千级标准的东区超净间。现整体拥有近 1800 平方米的东、西区两个净化实验室，6、8英寸先进微纳加工实验线各一条，具备多层级光刻图形化、薄膜生长与沉积、干法刻蚀、湿法清洗与刻蚀、先进封装、表征与测试等完善的微纳加工与测试能力，新增全自动深紫外步进式光刻机、离子注入机、分子束外延、激光诱导玻璃刻蚀、晶圆键合等先进的微纳加工与封装设备，有效增强了平台在有源电/光器件、MEMS、先进三维封装等领域的科研服务支撑能力。平台新增8英寸级高端微纳加工与测试新设备，将有效增强平台在有源电子/光学材料与器件、三维异质集成封装、MEMS、微纳光学、先进纳米材料与器件等研究领域的支撑服务能力，助推上海交通大学的微纳加工能力从无源器件全面提升到有源器件加工水平。

近年来，随着万物互联、人工智能等技术的飞速发展，对微纳技术也提出了更高的要求，AEMD在一期科研条件的支持下，在新型光电器件、MEMS器件等方面提前布局，支撑校内外科研团队在相关领域实现突破，取得了丰硕的成果。在此基础上，面向国家重大需求，服务交大双一流建设目标，AEMD二、三期又针对有源电/光器件、MEMS、异质异构先进封装等方面进行前瞻布局，以期将交大微纳科学基础与应用研究能力提升到更高水平。

新民晚报记者 易蓉