百纳米工艺提升性能三千倍,中国芯片弯道超车
柏铭007
2023-11-01 18:03:24

原标题:百纳米工艺提升性能三千倍,中国芯片弯道超车

清华大学戴琼海院士研发出了芯片的全新架构--光电模拟芯片(ACCEL),挣脱了美国摩尔定律的限制,以现有的百纳米级别工艺却能达到7纳米工艺的性能,为中国芯片技术开辟了新道路。

据了解ACCEL芯片的光学芯片部分只要采用百纳米级别工艺,而电路部分更是可以采用180纳米CMOS工艺就能生产这种芯片,用如此落后的工艺却能将芯片性能提升3000倍,与当前的7纳米工艺芯片性能相当。

尤为难得的是用如此落后的工艺,却能拥有超低的功耗,它的功耗只有现有硅基芯片的400万分之一,这样的超低功耗对于芯片行业具有极为重要的意义。

耗电已成为当下数据中心最头疼的问题,据分析数据指出数据中心的电力当中有七成耗电浪费在芯片发热以及为散热而建设的空调系统上,为了降低电力消耗,微软将数据中心建在海底,Facebook将数据中心建设在北极圈。

ACCEL芯片的超低功耗,可以大幅降低耗电量,一旦这种芯片实现商用,数据中心将无需再建设空调系统,也无需再选择在低温的北极圈建设,而且还能大幅节省数据中心占用的土地。

ACCEL芯片对中国芯片行业来说尤为重要,由于中国芯片产业链发展较晚,因此中国在推进先进工艺发展方面一再受制于海外芯片设备。

7纳米工艺以下需要EUV光刻机,而光刻机老大ASML至今都不允许对中国出售EUV光刻机,这已严重影响中国芯片产业的发展。

美国则借着对全球芯片行业的影响力,不仅限制先进芯片设备对中国的出口,还限制高端芯片对中国销售,近期NVIDIA就连定制芯片A800、H800都不被允许对中国出售。

美国如此做,意图阻止中国发展先进芯片,更要阻止中国在自动驾驶、人工智能等新兴科技领域的发展,这些新兴科技对于一个国家未来科技具有决定性影响。

ACCEL芯片让这些问题都迎刃而解,芯片工艺将不再是中国芯片的障碍,国产的光刻机已在浸润式光刻机方面突破,可以实现7纳米工艺,如此ACCEL芯片采用国产工艺超越台积电不是问题。

清华大学的介绍指出ACCEL芯片可以更好适应智能视觉任务和交通场景计算,它的计算能效比现有的AI芯片高出数百万倍,在未来人工智能、自动驾驶数据喷发阶段可以解决信息爆炸带来的问题。

近几年来中国一直都在努力研发芯片的新技术路径,除了ACCEL这种光电模拟芯片之外,中国还在研发量子芯片等先进芯片技术,筹建了全球第一条光子芯片、量子芯片生产线,ACCEL芯片技术为这些先进芯片技术与现有的硅基芯片技术融合提供了启发,将加速中国新芯片技术的发展。

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