原标题：华为公司申请掩模板组件、光刻装置和光刻方法专利，提高工艺窗口

金融界2024年1月24日消息，据国家知识产权局公告，华为技术有限公司申请一项名为“掩模板组件、光刻装置和光刻方法“，公开号CN117434789A，申请日期为2022年7月。

专利摘要显示，本申请提供一种掩模板组件、光刻装置和光刻方法，通过两次曝光工艺，提高工艺窗口。掩模板组件包括第一掩模板和第二掩模板。第一掩模板用于对待刻蚀层上的正性光刻胶中位于禁止周期的部分进行第一次曝光，得到第一光刻胶图案。第一掩模板包括交替的第一透光图形和第一散射图形。第二掩模板用于对第一光刻胶图案进行第二次曝光，得到第二光刻胶图案。第二掩模板包括交替的第二透光图形和第二散射图形。第二光刻胶图案中第一次曝光的部分与第二次曝光的部分交替且间隔设置，第一透光图形与第二透光图形的宽度相同；待刻蚀层包括位于禁止周期的待去除部分，第一透光图形和第二透光图形的图形周期，均为待去除部分中与其对应的部分的图形周期的两倍。

来源：金融界