佳能“纳米压印”或颠覆芯片制造
参考消息网1月31日报道据英国《金融时报》网站1月28日报道，佳能公司希望今年开始交付新的低成本芯片制造机，这家以照相机和打印机闻名的日本企业正努力在提供工具生产尖端半导体方面削弱长期行业领导者阿斯麦公司。
佳能公司发起挑战的背景是全球对芯片制造设备的需求激增。如果成功，佳能的“纳米压印”技术也许可以让日本制造商夺回一些它们在过去30年里拱手让给韩国等竞争对手的优势。
负责监管新光刻机开发的佳能产业集团负责人武石弘明（音）说：“我们希望今年或明年开始交付……我们希望在市场红火之际投放。这是一种非常独特的技术，使得用简单方法低成本生产先进芯片成为可能。”
佳能在去年10月中旬首次推出的纳米压印光刻（一种开发时间已经超过15年但该公司说现在才具有商业可行性的技术）把芯片设计压印到硅晶片上而不是用光来蚀刻。
佳能说，这种方法比荷兰阿斯麦公司主导市场的以光为基础的极紫外线技术成本低“一个数量级”，能耗也低90%。
阿斯麦是唯一可以生产高度精密复杂的极紫外线技术光刻机的企业，这种光刻机对台积电、韩国三星电子和美国英特尔公司等制造商生产最新型芯片来说至关重要。
但这家荷兰技术企业生产的光刻机也是芯片制造过程中成本最昂贵的部分，每台售价超过1.5亿美元，而且订货交付时间很长，这给佳能推销自己的技术提供了一些空间。
武石说：“我们的目标不是从极紫外线技术那里夺走市场份额……而是我们相信我们的纳米压印技术可以与极紫外线和其他技术共存，并促进行业的总体增长。”
尽管佳能对于切割出一块细分市场（它首先聚焦于3D Nand存储芯片而不是更复杂的微处理器）感到乐观，但分析人士对它能够带来的影响持怀疑态度。
调研企业自由移动电台公司创始人理查德·温莎说：“这种技术不是什么新东西……如果纳米压印技术是一种更好的技术，我认为它现在应该已经投入应用并且批量上市。”
佳能最大的挑战之一是提高它实现更高水平微型化的成功率。它从5纳米电路宽度节点开始并计划达到2纳米。
武石拒绝透露纳米压印机可能的良品率（生产出来的被认为没有缺陷并且可以交付客户的芯片比例），但分析人士表示其良品率需要接近90%才可以同极紫外线技术竞争。
武石说：“在缺陷风险方面，我认为我们的技术已基本解决了这个问题。但由于现有芯片制造过程围绕极紫外线技术进行了优化，引入新技术显然会有各种困难。”
因此，佳能首批交付的产品将用于试用，它必须让客户相信把新机器融入现有的芯片制造厂是值得的。该公司说不必大幅调整工厂的布局规划，但需要添加一些额外设备，比如清洁机和用于掩模生产的装置。
在被问及佳能公司认为发展纳米压印光刻机有多少地缘政治风险时，武石说：“除小心关注这个问题外没有多少其他选择。现在已经到了没有人知道风险在哪里的程度。”（编译/杨新鹏）