金融界2024年2月10日消息,据国家知识产权局公告,三星电子株式会社取得一项名为“半导体存储器件“的专利,授权公告号CN108987405B,申请日期为2018年3月。
专利摘要显示,可以提供一种半导体存储器件,其包括:基板,包括第一块和第二块,第一块和第二块每个具有单元阵列区域和连接区域;堆叠,包括绝缘层和栅电极并从单元阵列区域延伸到连接区域;第一单元沟道结构,在第一块的单元阵列区域中并穿过该堆叠以电连接到基板;第一虚设沟道结构,在第一块的连接区域中并穿过该堆叠;第二单元沟道结构,在第二块的单元阵列区域中并穿过该堆叠;以及第二虚设沟道结构,在第二块的连接区域中并穿过该堆叠。第一虚设沟道结构与基板电绝缘,而第二虚设沟道结构电连接到基板。
来源:金融界