金融界2025年6月30日消息，国家知识产权局信息显示，先导芯光电子科技（武汉）有限公司申请一项名为“一种脊型波导的制作方法”的专利，公开号CN120222150A，申请日期为2025年03月。

专利摘要显示，本申请涉及一种脊型波导的制作方法，其包括以下步骤：在晶圆的外延层结构正面生长掩膜层；在掩膜层上制作脊型光刻胶，并对光刻后的晶圆进行第一次干法刻蚀；对刻蚀后的晶圆进行处理后在掩膜层进行第二次干法刻蚀，其中，第二次干法刻蚀为ICP干法刻蚀，且刻蚀腔压为2～8mTorr，ICP刻蚀功率为150～300W，RF刻蚀功率为100～250W，刻蚀时间为20～50S；对刻蚀后的晶圆进行湿法腐蚀，形成倒台。本申请通过运用ICP高温刻蚀工艺，在ICP干法刻蚀时精准调控腔压、功率及时间等参数，克服脊波导刻蚀面积小，刻蚀材料少，深度浅，无法用ICP高温刻蚀的难题，大幅提高刻蚀速度，缩短制作周期，提升生产效率，解决了相关技术中脊型波导的生产效率低、质量不佳的技术问题。

天眼查资料显示，先导芯光电子科技（武汉）有限公司，成立于2024年，位于武汉市，是一家以从事科技推广和应用服务业为主的企业。企业注册资本30000万人民币。通过天眼查大数据分析，先导芯光电子科技（武汉）有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目8次，专利信息2条，此外企业还拥有行政许可10个。

来源：金融界