金融界2025年7月16日消息，国家知识产权局信息显示，湖北大禹汉光真空电器有限公司取得一项名为“一种真空灭弧室电弧均布式电极结构”的专利，授权公告号CN223108767U，申请日期为2024年09月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种真空灭弧室电弧均布式电极结构，包括杯座和设置在其上下两端的触头片、导电杆，所述导电杆上套设有连接套筒，所述连接套筒与导电杆之间为螺纹连接，所述连接套筒的上端与杯座的下端固定连接，所述杯座的上端设有置物槽，所述置物槽的内侧壁上滑动连接有支块，所述支块的上端贯穿置物槽并与触头片的下端相抵，所述支块的下端与置物槽内底部之间固定连接有第二弹簧，所述触头片的下端固定连接有多个呈环形分布的固定杆，所述杯座的上端设有与固定杆相对应的插槽，所述插槽的内侧壁上设有滑槽。

天眼查资料显示，湖北大禹汉光真空电器有限公司，成立于2007年，位于孝感市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1000万人民币。通过天眼查大数据分析，湖北大禹汉光真空电器有限公司参与招投标项目8次，财产线索方面有商标信息1条，专利信息62条，此外企业还拥有行政许可2个。

来源：金融界