要变天了！光刻机要被替代？
10月16日，A股光刻机板块迎大幅下挫，蓝英装备跌超12%，波长光电、张江高科等跟跌。
消息面上，日本佳能公司10月13日宣布推出FPA-1200NZ2C纳米压印半导体制造设备，该设备执行电路图案转移，这是最重要的半导体制造工艺。佳能表示，该设备采用不同于复杂光刻技术的方案，可以制造5nm芯片。换句话说，不用EUV光刻机，也能造5nm芯片了。
那么纳米印刷技术和EUV光刻技术有什么不同呢？
简单来说，EUV光刻技术是通过光学投影的方式，在硅晶圆上形成图案；而纳米印刷技术则是通过压印的方式，在硅晶圆上形成图案。因为它不使用镜头，所以可以以比现有曝光工艺更低的成本实现精细工艺。纳米压印替代的是光刻环节，只有光刻的步骤被纳米压抑技术代替，其他的刻蚀、离子注入、薄膜沉积这些标准的芯片制造工艺是完全兼容的，能很好的接入现有产业，不用推翻重来。
佳能公司表示，纳米印刷技术有很多优势：1、它可以大幅降低设备成本和耗电量（纳米印刷技术的耗电量只有EUV光刻技术的10%，而设备投资也只有EUV设备的40%）；2、纳米印刷技术可以提高芯片的性能和可靠性。它可以直接在硅晶圆上形成图案，不需要经过多次曝光和蚀刻等步骤。这样就可以减少图案之间的误差和变形，提高芯片的精度和稳定性。
此外，佳能的NIL技术使图案的最小线宽为14nm，相当于5nm节点，而随着掩模技术的进一步改进，NIL有望使电路图案化的最小线宽为10nm，这对应于2nm节点。市场分析指出，未来当光学光刻真正达到极限难以向前时，纳米压印技术或将是一条值得期待的路线，而那时，芯片制造或许也会迎来全新的范式，一切都会被颠覆。
受此消息影响，A股纳米压印相关概念股汇创达、美迪凯、苏大维格等逆势走强。
综合来看，今日市场表现除了因冲突导致的油气以及黄金等概念的上涨外，其他热点仍集中在减肥药以及华为产业链相关概念上。其中，受高新发展筹划购买华鲲振宇控制权并募集配套资金事项即将复牌消息刺激，华为国产服务器概念涨幅居前，四川长虹、宁夏建材、同方股份等涨停。注：华鲲振宇是华为鲲鹏+昇腾生态服务器出货量第一。
科技是永恒的主题。我们“优秀交易员”节目也在持续关注科技创新带来的产业巨变和市场机会，2023年以来，我们持续为大家梳理了包括AI算力、AI应用、半导体芯片、工业母机、数据要素、自动驾驶、机器人、华为产业链等等在内的众多科技分支方向投资机会，制作了总共26篇专题报告，我们将这26篇报告做了集合，制作了《科技系列专题》，感兴趣的朋友欢迎免费获取。
