豪威半导体申请LCOS模组及其形成方法专利,改善水汽的渗透
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2025-08-20 14:00:30

金融界2025年8月19日消息,国家知识产权局信息显示,豪威半导体(上海)有限责任公司 申请一项名为“LCOS模组及其形成方法”的专利,公开号CN120507922A,申请日期为2025年06月。

专利摘要显示,本发明提供一种LCOS模组及其形成方法,包括:LCOS结构、基底、围堰和顶盖玻璃;基底、围堰和顶盖玻璃围合成密封腔体;LCOS结构设置在密封腔体内,LCOS结构底部设置在基底上;LCOS结构包括:相对设置的LCOS基板和玻璃基板,以及液晶层和框胶;液晶层位于LCOS基板与玻璃基板之间;框胶用于贴合LCOS基板与玻璃基板,且框胶包围液晶层。LCOS结构通过框胶一次密封,通过基底、围堰和顶盖玻璃围合成密封腔体进行二次密封,改善水汽的渗透;在提高LCOS模组可靠性的同时又不影响LCOS产品的反射率。

天眼查资料显示,豪威半导体(上海)有限责任公司,成立于2001年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本38300万美元。通过天眼查大数据分析,豪威半导体(上海)有限责任公司参与招投标项目39次,专利信息90条,此外企业还拥有行政许可124个。

来源:金融界

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