奥来德申请化合物、光提取层材料和应用专利，提高器件的发光效率_资讯

奥来德申请化合物、光提取层材料和应用专利，提高器件的发光效率

金融界

2024-04-11 07:56:23

金融界2024年4月10日消息，据国家知识产权局公告，吉林奥来德光电材料股份有限公司申请一项名为“一种化合物、光提取层材料和应用“，公开号CN117843487A，申请日期为2023年12月。

专利摘要显示，本发明提供了一种式(I)结构的化合物，本发明化合物有效呈现低折射率光提取层材料的特性，用其与高折射率CPL搭配得到具有高发光效率的器件。本发明化合物以刚性的金刚烷基连接酯基为母核，可有效提升其成膜后的稳定性、耐久性。进一步引入多个位阻集团及吸电子基团(‑F、‑CN等电负性强的元素)，以调控分子的堆积密度和电子密度从而调节分子极化率。作为低折射率CPL，与高折射率CPL搭配，使得来自器件内发出的光经高‑低折射率的膜层产生微腔，利用光干涉效果提高出光效率，减少光损耗，从而提高器件的发光效率，同时具有较低的驱动电压和更长的使用寿命。

来源：金融界

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