三星申请半导体装置专利，专利技术能实现高度精确的图案排列_资讯

三星申请半导体装置专利，专利技术能实现高度精确的图案排列

金融界

2024-04-24 01:33:57

金融界2024年4月23日消息，据国家知识产权局公告，三星电子株式会社申请一项名为“半导体装置“的专利，公开号CN117917773A，申请日期为2023年9月。

专利摘要显示，提供了一种半导体装置，所述半导体装置包括：有源图案，在第一方向上延伸；多个栅极结构，在第一方向上间隔开，并且包括在第二方向上延伸的栅电极；源极/漏极图案，在相邻的栅极结构之间；硅化物掩模图案，在源极/漏极图案上，硅化物掩模图案的上表面低于栅电极的上表面；源极/漏极接触件，在源极/漏极图案上连接到源极/漏极图案；以及接触件硅化物膜，在源极/漏极接触件和源极/漏极图案之间与硅化物掩模图案的底表面接触，其中，从源极/漏极图案的最下面的部分到源极/漏极接触件的最下面的部分的高度小于从源极/漏极图案的最下面的部分到硅化物掩模图案的底表面的高度。

来源：金融界

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