和辉光电申请叠层OLED器件专利,大大降低横向串扰
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2025-12-05 22:21:52

国家知识产权局信息显示,上海和辉光电股份有限公司申请一项名为“叠层OLED器件”的专利,公开号CN121078901A,申请日期为2024年6月。专利摘要显示,本发明公开了一种叠层OLED器件,包括阳极层;空穴注入层,形成于阳极层一侧;第一发光层,形成于空穴注入层远离阳极层的一侧;电荷生成层,形成于第一发光层远离阳极层的一侧,包括各向异性层、N型电荷生成层和位于N型电荷生成层远离阳极层一侧的P型电荷生成层,N型电荷生成层和P型电荷生成层交界处形成分界面;各向异性层位于N型电荷生成层或P型电荷生成层内靠近分界面的一侧,且在分界面的至少部分表面上结晶形成多个互相独立的图案;第二发光层,形成于电荷生成层远离阳极层的一侧。本发明的叠层OLED器件,各向异性层使得载流子可在纵向上正常穿过,同时阻断了载流子横向移动,从而大大降低了横向串扰,提高了显示质量。

天眼查资料显示,上海和辉光电股份有限公司,成立于2012年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本1380943.7625万人民币。通过天眼查大数据分析,上海和辉光电股份有限公司参与招投标项目277次,财产线索方面有商标信息15条,专利信息1978条,此外企业还拥有行政许可498个。

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来源:市场资讯

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