国家知识产权局信息显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司申请一项名为“涂胶显影装置的控制方法、设备、介质和程序”的专利，公开号CN121325516A，申请日期为2025年11月。

专利摘要显示，本发明涉及涂胶显影设备领域，提供一种控制方法、设备、介质及程序。该方法基于包括第一工艺模块、层间模块和第二工艺模块的装置架构，其中各工艺模块包含N层，每层设有机械手和M个对称分布的工艺单元。通过监测各单元状态，调度第一、第二工艺机械手在各自层内并行传输晶圆，实现涂胶显影的高效并行处理。晶圆完成第二工艺模块处理后，由层间机械手送入层间制冷单元降温，使其温度满足返回第一工艺模块的工艺要求。控制系统基于各模块节拍动态调整层间机械手的传片与暂存时序。本发明用于在涂胶显影装置的晶圆传输过程中协同调度机械手，并通过温度衔接与节拍匹配，实现各工艺模块间的并行高效运行，提高整机产能与工艺稳定性。

天眼查资料显示，沈阳芯源微电子设备股份有限公司，成立于2002年，位于沈阳市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业。企业注册资本20162.7296万人民币。通过天眼查大数据分析，沈阳芯源微电子设备股份有限公司共对外投资了7家企业，参与招投标项目329次，财产线索方面有商标信息32条，专利信息650条，此外企业还拥有行政许可67个。

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