上海恩捷申请点涂隔膜专利,电池具备良好的电化学性能
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2026-02-18 03:21:36

国家知识产权局信息显示,上海恩捷新材料科技有限公司申请一项名为“一种点涂隔膜、其制备方法及电池”的专利,公开号CN121546281A,申请日期为2025年12月。

专利摘要显示,本发明公开一种点涂隔膜,点涂隔膜的双面分别包括多个涂点,涂点呈现周期性排列,其中周期性排列为单面最小涂点重复单元分别与TD方向及MD方向错位相同角度,且经双面叠加后的双面涂点叠加结构,其涂点覆盖率的差异大于0%且小于10%以下。更公开一种点涂隔膜的制造方法及包含点涂隔膜的电池。在不同双面叠加位置的点涂隔膜中,具备厚度一致性,电池亦具备良好的电化学性能。

天眼查资料显示,上海恩捷新材料科技有限公司,成立于2010年,位于上海市,是一家以从事橡胶和塑料制品业为主的企业。企业注册资本38921.0834万人民币。通过天眼查大数据分析,上海恩捷新材料科技有限公司共对外投资了24家企业,参与招投标项目15次,财产线索方面有商标信息17条,专利信息352条,此外企业还拥有行政许可98个。

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来源:市场资讯

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