8月30日，上海芯源微首台化学清洗机KS-CM300机台从飞渡路厂区顺利启运出厂。

上证报中国证券网讯（记者 韩远飞）8月30日，上海芯源微首台化学清洗机KS-CM300机台从飞渡路厂区顺利启运出厂。KS-CM300单片式化学清洗机是上海芯源微自主研发的首款高端设备，适用于Pre-deposition、Post-thinfilm、Post-etch、Post-imp、Post-CMP、PR-strip、NiPtremove等多种工艺，机台所用高温SPM清洗工艺被业界公认为对28nm/14nm制程性能要求最高的工艺之一，也是业内最具难度和挑战的湿法工艺。

公司研发的该款设备机台性能及工艺技术致力于达到国际先进水平，能够实现26纳米以下少于30个剩余颗粒的处理，在连续跑片十万片条件下，可满足客户Up-Time≥95%、刻蚀均一性≤2%等严苛性要求，其研发与验证有望解决国内客户的需求，对推动国产高端半导体清洗装备的发展具有重要战略意义，也是公司拓展前道化学清洗领域的重要里程碑。