2024年9月15日，“IT之家”得到了一个好消息：工业和信息化部于 9 月 9 日印发《首台（套）重大技术装备推广应用指导目录（2024 年版）》通知，在文件列表包含国产氟化氪光刻机（110nm），和氟化氩光刻机（65nm）的内容。

ArF（氟化氩）准分子激光源光刻机，光源实际波长突破 193nm，缩短为 134nm，NA 值为 1.35，最高可实现 7nm 制程节点。据了解，这个光刻机大概可以量产 28nm 工艺的芯片。28 纳米光刻机，是芯片中低端和中高端的分界线，意味着工业独立，中国的空调洗衣机汽车等各类工业品，可以突破西方国家设置的重重封锁，自主生产销售。

得到我们的工业和信息化部官宣的好消息，网友们心情激动无比。为我们祖国科技发展点赞的同时，网友们还想起了近几年国内部分专家学者们信誓旦旦的说，就是给中国人图纸，中国也造不出来光刻机。

不仅个别专家学者对我们的科技没有信心，2024年8月21日，何祚庥院士也这样说：就算把图纸给中国，中国都不可能把芯片做出来！原因是，在真正的技术转让时，不仅仅要卖给一则图纸，还需出一大笔钱，购买所谓的"know how"。一句话，人家不给“诀窍”，中国人就做不出来。

那些学者和专家发表负能量的言论之后，仅仅几年的时间，我们在科技领域就已经实现了大突破，不仅大飞机突破了，这下光刻机也突破了。相信经过我们科技工作者的努力，用不了几年的时间，我们就可以完全实现芯片独立自主了，再也不用被别人卡脖子了。看来我们的科技工作者，不像也的专家学者们认为的那样，即便外国人给图纸，我们也搞不来高科技。

曾几何时，为了不让我们在光刻机领域实现突破，老美已经把台积电全部搬空了，本以为会起到很大的作用，没想到最后失望了！他们在光刻机领域卡我们脖子的时代应该很快过去。想一想，二弹一星、北斗卫星、天宫站、盾构机、量子通信、航空母舰………哪一个不是在重重围堵中突围？相信我们的芯片技术也一样，只要举全国之力，赶超世界只是时间问题。

何祚庥院士看来网友们发来的这个好消息，一改往日总是贬低我们科技领域成绩的习惯和习气。如今，他老人家也高兴的对我们光刻机领域给予了支持和鼓励！

2024年9月15日凌晨，何祚庥院士对此给出了评议：好，好，好。终于突破了！突破了！中高端光刻机终于实现了突破！这可是中国官方正式的公布，并不是民间的传说！接下来的信息，当然是中国的芯片技术，也将陆续获得大突破。

光刻机有了新突破，充分证明了一个古老的道理：只要人心齐，泰山也能移。在此，应该为我们的祖国点赞！更应该向辛勤工作和奋斗在一线岗位的工程师科学家们致敬！我们中华民族是伟大的民族！我们中国人民是伟大的人民，我们中国人的智慧也是无穷无尽的！

同时，我们也不能骄傲，还是希望所有人明白一点，正视差距是进步的前提条件。我们发展的速度确实不慢，但之前差距太大了，况且人家也在不断的进步，并没有人原地等我们。所以，我们还是要放平心态，应该知道，任何的突破都是一个漫长的过程。人家比我们厉害的东西还很多，在以后的实践中，不仅要学人家的技术，关键是要学人家的人才培养模式和管理制度。