光刻机概念延续强势，新莱应材、南大光电涨超10%_资讯

光刻机概念延续强势，新莱应材、南大光电涨超10%

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2026-06-05 14:50:11

来源：滚动播报

（来源：财闻）

消息面上，美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外光刻装置，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，进一步降低了半导体芯片制造门槛。

6月5日，光刻机（胶）概念延续强势，新莱应材（300260.SZ）、南大光电（300346.SZ）涨超10%，沃格光电（603773.SH）、XD百合花（603823.SH）涨停，江化微（603078.SH）、苏大维格（300331.SZ）、晶瑞电材（300655.SZ）、亚威股份（002559.SZ）、上海新阳（300236.SZ）跟涨。

消息面上，美国得克萨斯大学奥斯汀分校研究团队开发出一种桌面级极紫外（EUV）光刻装置，并结合新型三维纳米打印技术，将原本需要数天完成的加工过程压缩至数分钟，进一步降低了半导体芯片制造门槛。研究团队表示，除芯片制造外，该技术还有望应用于纳米药物、量子计算和新材料合成等领域。相关研究发表于新一期《纳米快报》。

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