众能光电取得一项专利，避免镀膜分子大量排出，保证镀膜效果_资讯

众能光电取得一项专利，避免镀膜分子大量排出，保证镀膜效果

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2024-08-21 06:22:12

金融界 2024 年 8 月 20 日消息，天眼查知识产权信息显示，杭州众能光电科技有限公司取得一项名为“一种溅镀机分子泵真空抽气口用遮挡机构及溅镀机“，授权公告号 CN221544741U，申请日期为 2023 年 12 月。

专利摘要显示，本实用新型公开了一种溅镀机分子泵真空抽气口用遮挡机构，包括安装在机体内侧的安装板，所述安装板上开设有与机体分子泵真空抽气口对应的主洞，分子泵真空抽气口外侧连接真空泵，且安装板上安装有向上倾斜的遮挡从下侧过来的镀膜分子的主防着板，阻挡下侧过来的镀膜分子。主洞相对于传统小真空抽气口，尺寸更大，抽气效率高，而主洞前侧设置的主防着板，能够在保证抽气的同时，阻挡镀膜分子，避免镀膜分子大量排出，从而保证镀膜效果。主防着板设置多个，提高了透气性，也保证了遮挡效果。侧防着板能够遮挡传感器，避免镀膜分子覆盖，保证灵敏度。

来源：金融界

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